A volfrám és a volfrám-szilicidek kémiai gőzfázisú leválasztása Vlsi/ ULSI alkalmazásokban

Eredeti címe:

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Könyv tartalma:

Ez a monográfia egyetlen áttekinthető kötetbe sűríti a volfrám (W) takaró és szelektív CVD-vel kapcsolatos releváns és idevágó szakirodalmat.

A könyv biztosítja az olvasó számára a szükséges hátteret a CVD-W-folyamatok beindításához, finomhangolásához és sikeres fenntartásához egy termelési berendezésben. Az anyagok leválasztási kémiája, a berendezések, a folyamattechnológia, a fejlesztések és az alkalmazások kerülnek ismertetésre.