Introduction to Ultrathin Silica Films: Silicatene and Others
Ez az első olyan könyv, amely a fémszubsztrátokon növesztett ultravékony szilícium-dioxid filmek előállításáról, atomi szintű leírásáról és kémiájáról szól. A szilícium-dioxid (SiO2) számos modern technológiai alkalmazás egyik kulcsanyaga.
A nanoelektronikai eszközök további miniatürizálása megköveteli az ultravékony szilícium-dioxid filmek racionális tervezését elektromosan vezető szubsztrátokon. Egyre több kísérleti és elméleti eredmény szolgáltat alapot arra, hogy az egyrétegű szilikátok a valóban kétdimenziós anyagok családjába kerüljenek, és megkapják a szilikát nevet. Emellett a vékony szilikátfilmek jól alkalmazhatók a szilikátfelületeken lejátszódó kémiai reakciók tanulmányozására.
Sőt, más fémekkel módosított vékony szilícium-dioxid filmek segítségével a természetes szilikátok, például az agyagok és a zeolitok felületi szerkezetével és kémiájával is foglalkozhatunk. Végül, a jól definiált szilícium-dioxid filmeken végzett vizsgálatok a kristály-üveg átmenetek atomi szintű leírását is lehetővé tehetik.